申请文件应统一使用中文进行书写。对于外国人名、地名和科技术语,若无统一的中文译文,需在中文译文后括号内标注原文。申请文件应采用宋体、仿宋体或楷体进行打字或印刷,字迹应为黑色,字体高度应在3.5~4.5毫米之间,行距应在2.5~3.5毫米之间。
若申请文件中包含附图,线条应清晰均匀,不得涂改。工程蓝图不得作为附图使用。
此外,申请文件还应按下列顺序排序:
发明或者实用新型专利申请文件应当按照下列顺序排列:请求书、说明书摘要、摘要附图、权利要求书、说明书(含氨基酸或核苷酸序列表)、说明书附图。
设计专利申请文件应当按照下列顺序排列:请求书、图片或照片、简要说明。申请文件各部分都应当分别用阿拉伯数字顺序编写页码。
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